光敏印章製作論文

光敏印章製作論文

　　1光敏印章的原理

　　光敏技術指的是利用光敏材料的感光特性進行印章製作的方法。專用的光敏材料是一種超微泡材料，其表面的微孔孔徑非常小，平均孔徑小於30微米。本身具有儲油滲油及光閃熔特性。光敏材料在受到強光照射的時候，可以吸收光能並轉換成熱能，顏色越暗吸收的能量越多。曝光時，光敏材料表面見光部分瞬間吸收大量的光能後，溫度迅速上升並達到熔點，閃光結束後，表面熔體的溫度迅速降低，形成一定厚度和強度的薄膜，這層薄膜同時起到封孔閉孔的作用，並隔絕印油的滲透。這就是光敏章成像的原理。利用光敏材料的這一特性，用鐳射印表機將章稿列印在具有透光特性的硫酸紙或鐳射膠片上，將其覆蓋在光敏材料上後放在曝光機內曝光，由於章稿本身具有黑度不能透光，因而章稿覆蓋的光敏材料沒有受到光照仍然可以儲油滲油，而其他部分則由於受到光照發生凝固不能滲油，從而實現了印章的製作。由於鐳射印表機的列印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔結構，因此，光敏印章的精度比採用鐳射雕刻的印章或其它技術方式製作的印章的蓋印精度高出許多，是目前印章製作精度最高的一種印章。

　　2光敏印章的製作流程

　　光敏印章的具體制作流程圖為：

　　(1)首先使用排版軟體將印章排版，目前國內常用的印章排版軟體有很多種。由於光敏印章的高畫質晰性，目前很多光敏印章排版軟體都具有編排指紋防偽、邊框防偽細條紋等功能，使用者可以這些利用隨機生成的防偽紋，排版出防偽印章。

　　(2)鐳射印表機列印章稿。印章排版好以後，需利用鐳射印表機將章稿列印在硫酸紙或透明膠片上。此時，要求鐳射列印稿具有足夠的黑度及均勻度。否則將嚴重影響光敏章的製作質量。部分使用者採用二手鐳射機或噴墨印表機列印章稿，看似節省了列印成本，其實是揀了芝麻丟了西瓜。

　　(3)光敏印章機曝光：將列印了章稿的硫酸紙或膠片覆蓋上透明曝光膜及光敏印章墊。三者之間的順序及朝向依次為章稿背面向曝光光源，章稿列印面貼曝光膜，曝光膜貼印章墊，三者依次平穩緊密接觸，中間嚴禁有間隙式皺摺。三者壓緊後曝光既可。

　　3光敏印章機技術研究與分析。

　　光敏印章機的技術性能對光敏印章的製作質量起著至關重要的作用。光敏印章機主要包含光敏燈管電源及光敏印墊機械壓緊裝置兩大部分。

　　光敏機的電源部分包含電容的充放電部分及光敏燈管的觸發電路部分，通常採用倍壓充電的方式，充電電壓在400V-600V時可以觸發光敏燈管導通曝光。充電電路中充電電容一般採用450V，1OOOUF電解電容串並聯構成。選擇高品質、高穩定性的電解電容可以提高光敏機整機的穩定性和可靠性。目前光敏印墊的種類繁多，不同印墊要求的曝光能量也千差萬別。曝光能量不足會造成印章邊界模糊，不清晰，而曝光過度又會造成章面吸油性變差，影響蓋章質量。一般要求光敏印章機單根燈管曝光能量最大能達到600焦耳以上，雙管光敏機的能量最大能達到1200焦耳以上。同時，根據印墊種類的不同，要求光敏機的`曝光能量能夠根據印墊的不同要求平滑可調。目前國內光敏機多采用雙光敏燈管設計，由於每根管子的導通性不可能完全一樣，在進行電路設計時，應該採用兩組獨立的電容充放回路。這對提高光敏燈管的壽命，提高整機的穩定性是非常重要的。

　　光敏機的機械壓緊裝置是光敏印章機的另一個重要組成部分。光敏印墊在曝光時不僅要受到足夠的強光照射，印墊本身的厚度還需被壓縮到一定尺寸，這樣才能夠有較好的曝光效果，因此，在設計光敏印墊機械壓緊裝置時不僅需要壓力勻均，而且需要壓力足夠並且能夠適用不同厚度光敏印墊。目前光敏印墊的厚度一般在3mm-7mm之間，壓緊時一般需要將其厚度壓縮至原厚度的一半左右，如7mm的印墊需壓縮至3-4mm左右才能保證有較好的曝光效果。設計一個外形美觀、適用方便、成本合適的壓緊裝置對提高光敏印章的製作質量也是至關重要的。