全程水處理器的使用方法

　　電子除垢儀加過濾器即全程水處理器;產品具有防垢、防腐、殺菌、滅藻、超淨過濾等功能。下面是小編整理的關於，希望能夠幫到大家。

　　全程水處理器產品簡介

　　全程綜合水處理器主要由優質碳鋼筒體、特殊結構的不鏽鋼濾網、高頻電磁場發生器及排汙裝置等組成，自動型Z型在手動型基礎上增設了控制單元、感測器和電動排汙裝置，可實現自動化執行，無需人工干預。自動清洗型ZS型在自動型的基礎上加裝有自清洗裝置，能夠自行清洗水處理器過濾單元，使得處理器的功能更加完善。

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　　全程水處理器說明

　　全程綜合水處理器是針對各種迴圈水系統中普遍存在的四大問題：腐蝕、結垢、菌藻、水質惡化而研製的綜合型水處理器，由單臺裝置代替需要多臺裝置才能完成的處理過程，從而取代了傳統的處理方式。具有對水質綜合優化處理，防垢除垢、防腐阻鏽、殺菌滅藻、超淨過濾功能。機電一體化的設計、純物理方式處理，無需化學藥劑，阻力小、流量大，而且執行費用極低，操作簡單，維護方便，是各種水系統之好的選擇。

　　全程水處理器除垢防垢

　　由高頻發生器產生高頻電磁場對水進行處理，使原有的大締合體狀態水的結合鍵被深度打斷，離解成活性很強的單分子或小締合體狀態的水，從而改變了水的物理結構與特性，增強了水分子的極性，增大了水分子的偶極矩，提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組份的水合能力，起到防止水垢形成的作用。

　　高頻電磁場水應用於防垢，是由於其存在大量的"離子締合體"或"顆粒締合體"，在水溶液中提供了大量的結晶核心。結晶核心越多，生成的結晶數量也越多，水垢結晶的線性尺寸就越小。此外，由於單個或雙氫聯結的水分子數量增多，水分子的活動更"自由"，它佔據水溶液的其它空隙，象形成極薄的膜一樣，因而阻礙晶體生長，促使水垢結晶線性尺寸減小，使水垢呈鬆軟的細小顆粒，隨排汙水排除。

　　防腐阻鏽

　　氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統管道及裝置腐蝕和生鏽的主要原因，而在高頻電磁場的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧與水分子結合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發生，從而起到良好的防腐阻鏽的作用。

　　殺菌滅藻

　　電場處理水過程中，溶解氧得到活化，產生O2-、·OH、H2O2以及1O2等活性氧O2-是超氧陰離子自由基，·OH是羥基自由基，H2O2是過氧化氫，1O2是單線態氧。活性氧自由基能對微生物機體產生殺滅作用，是造成微生物衰老的最主要原因。O2-可損傷重要的生物大分子，造成微生物機體損傷;O2-增加微生物集體膜脂過氧化，加速衰老。因而達到殺菌滅藻的效果。

　　超淨過濾

　　全程綜合水處理器內建特殊結構的不鏽鋼濾筒，在滿足較大流量的同時，能夠保證更高的過濾精度要求，濾筒的特殊結構能夠在裝置反衝洗排汙時，使反洗水流產生更強的噴射效果，將附著在濾筒內壁的雜質更為徹底的沖洗掉，經排汙閥排除在本體外。

　　全程水處理器應用範圍

　　1、空調、製冷迴圈水系統，熱交換系統及冷卻水系統，採暖、地源熱泵、游泳池用水、熱水鍋爐、自來水、地表水、地下水等。

　　2、石油、化工、鋼鐵、造紙、發電、橡膠、及其它工礦企業的冷卻水、迴圈水、源水及汙水處理等。

　　型號說明

　　全程綜合水處理器口徑—過濾精度/設計壓力/Z自動型ZS自清洗排汙型